תוסף גומי הסיליקון הנוזלי מבוסס על polydimethylsiloxane המכיל ויניל, ו-polyorganosiloxane המכיל מספר רב של קשרי Si-H כחומר הצלבה. תחת פעולתו של זרז פלטינה, תגובת ההוספה מתבצעת בטמפרטורת החדר או בחימום כדי להשיג את המבנה התלת מימדי המצולב של גומי סיליקון. נוסחת התגובה מוצגת כדלקמן:
ביישום של גומי סיליקון נוזלי מסוג תוסף דו-רכיבי, כאשר שני הרכיבים מעורבבים, הוא זקוק לזמן פעולה מתאים בטמפרטורת החדר. זמן ארוך מדי, גיפור איטי מדי, חייב להפחית את יעילות הייצור; והזמן קצר מדי, הבנייה מתוחה, אבל גם לגרום לבזבוז של חומר גומי. עבור תוסף סיליקון נוזלי רכיב אחד, זה דורש יציבות גבוהה בטמפרטורת החדר, ניתן לאחסן במשך זמן רב. אבל כאשר הוא עולה לטמפרטורה מסוימת, ניתן לגפור אותו במהירות. לכן, על מנת לעמוד בדרישות היישום, בדרך כלל צריך להוסיף מעכבי תגובה (כגון אלקיניל אלכוהול וויניל סילוקסן וכו'). בפרט, על מנת להשיג את המעבר לקולואידים חד-רכיביים נוחים יותר, פותח זרז פלטינה מוקפס במיקרו, כלומר, זרז הפלטינה מוקף בשרף של נקודת ריכוך נמוכה (50-200 מעלות ) (כולל שרף אורגני ושרף סיליקון), וגודל הקפסולה הוא פחות מ-100μM. בטמפרטורת חדר או טמפרטורה נמוכה, בגלל בידוד פלטינה, לא יכול לשחק תפקיד קטליטי, כאשר הטמפרטורה עולה מעל נקודת הריכוך של שרף, זרז פלטינה משתחרר, ובכך מזרז תגובת הוספה, צולבת לאלסטומר.